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真空镀膜设备
真空镀膜机
真空镀膜机

真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被成为基片,镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。

蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且沉积在基片表面,经历成膜过程,然后形成薄膜。

光学高精电子束蒸发真空镀膜设备用途:多弧离子镀膜始于上个世纪70年代,采用真空环境下引火器引燃弧光放电源(阴极)与真空室(阳极)之间形成自持弧光放电,使从阴极弧光辉点射出的阴极物质离子形成空间电荷层,产生强电场,使阴极表面上功函数小的开始发射电子;电流局部集中产生的焦耳热使阴极材料局部地爆发性地等离子化,发射电子和离子,同时也放出熔融的阴极材料,在工件偏压的作用下与反应器件化合而沉积在工件表面上,从而在工件上形成被镀的膜。多孤离子镀膜机离化率高沉积速度高,适用于镀制装饰膜和超硬耐磨膜。多弧离子镀膜机的基础上配置圆柱靶或平面磁控靶,结合磁控溅射低温、稳定的优点,适合镀单层膜和各种复合膜层。如:金色的氮化钛,黑色的碳化钛,七彩的氮氧化钛等,亦可镀防腐蚀膜(如:AL、Cr不锈钢及TiN等)。

基材:不锈钢,锌合金,塑料,玻璃,陶瓷

应用:手机外壳,MP3外壳,数码相机外壳,表壳、表带、眼睛架、健身球、首饰、灯具、餐具、工艺美术品上,工具、刀具、模具等

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